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光电芯片制造重大突破:我国科学家首次获得纳米级光雕刻三维结构

时间:2022-09-16 15:17 阅读:

  据南京大学 、光计算、人工智能等领域有广泛的应用前景。

   这一工作将飞秒激光极化技术与铌酸锂铁电畴工程有机结合,突破了传统技术的壁垒,首次在三维空间实现了纳米铁电畴可控制备。将其应用于量子光学领域,可实现高效、高维和窄线宽量子纠缠产生;在电子学领域,可以推动高性能铁电畴壁纳米电子器件的发展,譬如大容量可重写非易失性存储器;在声学领域,纳米周期的铁电畴结构可以实现超高频声学谐振器和滤波器。飞秒激光极化技术可以进一步应用于其他铁电晶体,包括钽酸锂和磷酸钛钾晶体等,并促进高性能三维光、声、电集成器件的发展。

  

  

   该项研究工作得到了科技部国家重点研发计划、国家自然科学基金、固体微结构物理国家重点实验室和人工微结构科学与技术协同创新中心的支持。