日本冲绳科学技术大学院大学：EUV光刻技术突破，功耗降低至传统十分之一

　　8月2日，冲绳科学技术大学院大学发布最新报告，该校设计出一种极紫外光刻技术，该技术突破了半导体制造业的传统界限。新型光刻设备采用更小的EUV光源，功耗仅为传统EUV光刻机的十分之一，显著降低了成本。此外，新技术还大幅提高了机器的可靠性和使用寿命，为半导体行业带来重大变革。