资深高管罗唯仁带走2纳米机密技术“投敌”，台积电点名炮轰英特尔！台积电已经连续发生内鬼事件

　　罗唯仁在今年7月退休前，利用高管职权，指示下属影印大批机密文件，包括2纳米、A16、A14及后A14制程的技术规格、专利细节及生产模组资料。罗唯仁习惯手写记录会议内容，从不使用电脑。他在退休时带走了下属为他打包的手写笔记及影印档超过20箱，这些资料被视为高度机密，可能涉及EUV光刻技术、背面供电网络及图案化方案等核心知识产权。

　　这是美国政府振兴英特尔的举措之一，他们要求台积电以技术入股，向英特尔提供芯片制造技术，并培训技术工人，同时分享部分客户。

　　之中，主犯可能会被判处14年监禁。

　　调查显示，一名台积电员工在离职之后加入东京威力科创，与两名依然在职的台积电员工里应外合，将数千张照片与文档传给了东京威力科创。其中包括了2纳米制程技术细节：包括工艺流程、设备设置、可能的芯片设计以及良率数据。

　　这些数据可以帮助东京威力科创有效改进设备——尤其是蚀刻设备——以便争取成为2纳米芯片的设备供应商，从而提升市场竞争优势，甚至与台积电竞争客户。短短数月内再次发生更高级别的泄密指控，让外界不由不对台积电的内部管控产生质疑。

　　在半导体这样一个技术密集、研发周期长、投资规模巨大的产业，如何有效保护企业投入巨额资金研发的核心技术，防止不正当竞争，显得尤为重要。台积电每年在研发上的投资超过100亿美元，任何核心技术的外流都可能造成难以估量的损失。

　　目前，罗唯仁这起诉讼还处于初期阶段，最终结果尚难预料。台积电是否会正式起诉英特尔，英特尔是否知情罗唯仁的所作所为，罗唯仁是否真的违反了保密义务，是否故意带走机密文件投奔英伟达，这些都需要通过司法程序来认定。

　　可以预见的是，这场涉及全球两大半导体巨头的法律战将持续相当长时间，其诉讼走向与结果不仅关系到两家巨头的利益，更将对整个半导体产业的人才流动和知识产权保护规则产生深远影响。