27nm光刻机（28nm光刻机通过验收）

　　目前中国最先进的光刻机（国产28nm光刻机进展）

　　;     在新能源飞速发展和产品智能化的大背景下，高科技进入蓬勃发展阶段，所有高科技产品最不可或缺的核心部件就是芯片了。作为以智能手机为主要业务的

　　      华为

　　      ，对芯片的需求量更是巨大。

　　      大家都知道生产芯片最重要的器械就是

　　      光刻机

　　      ，但由于受到来自

　　      漂亮国

　　      的制约，“实体清单”规则被修改后，

　　      ASML

　　      因为生产光刻机的技术有一部分来自于漂亮国，受此影响，连带着芯片代工厂也无法为华为公司提供芯片代工服务。

　　      华为现在最先进的芯片是采用台积电5nm工艺制作的

　　      麒麟9000芯片

　　      ，但随着“限制令”的制约，

　　      麒麟9000

　　      芯片的库存正在一天一天减少，在无法获得5G芯片的情况下，华为只能采用

　　      高通

　　      的4G芯片，没有

　　      5G

　　      芯片的支持，华为的5G手机只能当成4G来用，也因此，华为的手机业务受到了重创。

　　      事实上，不仅是华为，我国其他高科技企业现在都处于“缺芯”状态。如果要解决“缺芯”难题，首先我们就要解决光刻机的自产自研问题。

　　中科院

　　      立功了

　　      为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长光所、上光所联合光电研究院在2009年，启动了“高NA浸没光学系统关键技术研究”，进行高端光刻机的攻坚。该项目于2017年在长春国科精密验收，曝光光学系统研发核心的骨干人员也在同年间转入长春国科精密继续钻研光刻机技术难题。

　　      在此之后，国望光学引入

　　      中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

　　      ，以及

　　      上海光学精密机械研究所

　　      推动国产光刻机核心部件生产。在2016年，国望光学研发出90nm节点的ArF投影光刻机曝光光学系统，之后将继续向28nm节点ArF浸没式光刻曝光学系统研发进攻。

　　      长春国科经济在2018年也传来好消息，攻克了高NA浸没光学系统的关键技术研究。这也是我国实现完全拥有自主知识产权的高端光刻机曝光光学系统的标志。这些成就的达成都离不开中科院的技术支持，可以说中科院立了大功了。

　　      为什么要花费那么大的精力去研发曝光光学系统?这对光刻机的制造很重要吗?这我们就要从光刻机的工作原理说起了。光刻机又叫掩模对准曝光机，它的工作原理简单地说类似于照片冲印的技术。

　　      光刻的过程就是在制作好的硅圆晶表面涂上一层光刻胶，然后通过紫外线或深紫外线透过

　　      掩膜

　　      版，把上面的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，在

　　      光刻胶

　　      的覆盖下，这些被光线照射到的部分会被腐蚀掉，而没有被照射到的部分就会被保留下来，形成我们所需要的电路结构。所以曝光系统可以说是光刻机的核心组成之一。

　　国产光刻机正式传来好消息

　　      根据国望光学在发出的公示，

　　      投影光刻机曝光光学系统将应用于28nm芯片的批量生产当中。

　　      在这之前，我国只能制造出用于90nm制程的光刻机，但随着这两项技术的突破，我国对于28nm光刻机制程实现了突破性的进展。

　　      28nm芯片有着比90nm芯片更加优越的性能，用途也更加广泛，尤其是对于新能源产业，如新能源汽车或者智能家居产业填补了对于28nm芯片缺失的空缺。

　　      此外，根据媒体消息，上海微电子也做出披露，在2021到2022年将会交付出第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这表明我国完全能实现28nm芯片自由。拥有完整的知识产权和自主产业链，就无畏海外市场在芯片上对我们“卡脖子”了。

　　      虽然28nm芯片已经能满足大部分的生产需求，但是对于华为这些手机厂商和其他一些国产芯片来说，28nm的精度还是不够用的，接下来我国的下一步目标便是进行5nm制程光刻机的攻克，手机对于芯片的精度要求要更高，所以目前我国还是不能停下研发的脚步。

　　      虽然目前我国还没研发出5nm制程的光刻机，但已经可以制造出5nm制程的刻蚀机了，这对于我国芯片发展也是一个鼓励性的好消息。

　　      成果是喜人的，但如果拿来与世界上最先进的7nm制程光刻机比的话还是远远不够的，国产化光刻机的道路还要走很远。

　　用于28nm芯片生产的国产光刻机已经通过验收，这意味着什么？

　　提及芯片，就不得不说光刻机，由于其生产制造芯片的必需机器设备，全世界范畴内，ASML的光刻机技术更为优秀。

　　据了解，ASML产品研发生产制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎攻占了中高档销售市场，尤其是EUV光刻机，从出货迄今，仍是一机难寻，缘故是生产制造7nm下列芯片离不了它。

　　尽管ASML的光刻机很受大家喜爱，但ASML的却不可以随意出货，依据ASML公布的信息得知，在美生产制造的DUV光刻机在并没有批准的情形下，是不可随意出货的。EUV光刻机在并没有批准的情形下，更不可以随意出货，乃至向外资企业中国生产基地出货也遭受管束。

　　在那样的情形下，ASML一直都在想办法完成随意出货，其不但多次确立指出要在中国内地销售市场增加合理布局，扩张研发中心经营规模，基本建设售后服务中心，还需要向中国给予其能提供的一切技术。

　　关键是，ASML还对外开放扩张光刻机的生产能力，预估未来五年生产制造115台，并扩张坐落于新加坡的生产流水线，乃至还学习培训高通往美传出了警示。

　　近日，ASML的最新动态宣布传出，其官方宣布项目投资2亿美金扩张在美丽的加工厂。都了解，高通芯片、tsmc等生产商不可以随意出货，便是由于美改动标准，这也是tsmc没有在美基本建设大量的厂子的首要因素之一。

　　现如今，ASML却项目投资2亿美金扩张在美加工厂经营规模，这代表着中国工程院院士说得没有错，关键技术务必独立把握。

　　尽管ASML多次就随意出货作出了确立表态发言，但中国工程院院士得话，也该高度重视起来了。就现在来讲，中国厂家在光刻机技术等领域也完成了好几个提升。

　　资料显示，上海微电子技术的开发生产制造的光刻机攻占了中国八成销售市场，其产品研发生产制造的封装机攻占全世界四成的销售市场。

　　近些年，芯片测试设备也变成芯片生产流水线的必须品，愈来愈多的生产商逐渐选购。日前，中国生产商上海积塔半导体还选购了几台上海微电子技术的测试设备，用以芯片生产流水线中。

　　此外，在灯源技术层面，中国生产商已经熟练掌握了深紫外线源技术，ASML的DUV光刻机应用该便是该技术，并变成全世界把握该技术的三大公司之一。

　　与此同时，光源系统生产制造产业基地新项目已经逐渐招标会基本建设，这代表着中国已经方案大批量生产制造光源系统，为光刻机批量生产制造做准备。

　　在电子光学透膜及其双光透镜等层面，中国科研院所也产品研发出来优秀的双光透镜技术，为优秀光刻机应用的双光透镜技术奠定了基本。

　　也有信息称，国内优秀光刻机可能在今年底退出，其可以用以生产制造28nm到10nm等制造的芯片，加快28nm、14nm等芯片全方位国内生产制造的。

　　自然，除开光刻机外，华为公司等中国生产商也很早合理布局下一代芯片——光学芯片，该芯片可以在技术上彻底避开美技术，并且，华为公司在光学芯片行业内已经属于引领者。

　　与此同时，华为公司还根据公司旗下的哈勃持续项目投资中国有关芯片全产业链，目地便是在芯片行业内完成全方位提升。

　　国内“巨头”打破垄断，光刻机迎来希望，核心器件已研制成功

　　 中国的半导体产业虽然谈不上落后，但也算不上先进，有像华为海思这样闻名全球的芯片公司，也有崭露头角的汇顶 科技 、紫光展锐这样的芯片公司。但整个半导体产业链其实是非常庞大的，中国的芯片公司主要只是掌握了设计。

　　 整个半导体产业链规模是十分庞大的， 从EDA到芯片设计、芯片制造，到最后封装测试，所涉及到的公司不计其数。 而在中国大陆，半导体产业主要存在于芯片设计这块，我上面提到的华为海思便是主要做芯片设计，并未参与到制造过程中。

　　 中国的芯片公司把产品设计出来后再交给代工厂生产，如咱们熟悉的台积电，不仅是麒麟系列芯片的代工厂，还是苹果A系列芯片的代工厂，也就是说， 台积电是芯片设计公司的上游供应商，而在台积电的上面，还有更上一级的供应商，那就是半导体设备商。

　　 整个半导体制造产业中，最核心的设备就是光刻机， 因为缺少了光刻机，中芯国际目前仅取得了14nm工艺进展。 相比之下，台积电已经在量产5nm、规划3nm工艺了，所存在的差距确实是巨大的。不过现在好消息传来了，中国已经开始追赶了。

　　 投影物镜、工件台和光源，这是制造光刻机的三大核心子系统，对自主生产光刻机有着至关重要的作用。 早在2001年的时候，荷兰光刻机公司ASML就生产出了双工件台系统， 极大的提升了光刻机的产能，从原本单工件台的80片/时，提升到了270片/时。

　　 就在那时候，ASML已经把光刻机的分辨率已经推进到0.1微米，而中国光刻机分辨率还处于0.8到1微米，而且缺乏产业化，主要研制单位都是研究所。ASML双工件台系统的推出，引起了清华大学机械工程系教授朱煜的关注。

　　 朱煜当时就认定，中国必须掌握这样的顶尖技术，因为这是强大的技术壁垒，双工件台称得上是半导体产业中一个世界级的难题。 在这样的背景之下，朱煜参与了“十五”、“863”IC装备重大专项的规划工作，2004年便研制出了10纳米同步精度的超精密运动。

　　 但在后续的研发过程中，朱煜团队又陷入到了瓶颈之中，从2004到2008年，团队一度因为研发经费不足而几乎停滞，好在2009年“02专项”开始实施，团队才再次获得科研经费，从这时开始，朱煜团队开始重点研发双工件台。

　　 为了加快产业化进程，2012年朱煜等人成立了华卓有限，也就是如今的华卓精科，经过长达8年的努力，朱煜团队终于开始收获回报了。 2016年华卓精科研制成功两套α样机，这也是“02专项”光刻机项目群中，首个通过正式验收的项目。

　　 如今在朱煜等人带领下的华卓精科，成功 打破了ASML长达20年的双工件台垄断， 成为了全球第二家掌握高端光刻机双工件台的企业。按照计划， 华卓精科将于2021年生产可用于浸没式28nm光刻机的DWSi系列双工件台，朱煜表示，这款产品的售价约为6000万元。

　　 目前华卓精科已经拿下了上海微电子的订单，公司的工件台已经于2020年4月供货。不过摆在华卓精科面前的难题依然艰巨，因为这家公司目前仅有上海微电子一家客户，而全球三大光刻机厂商尼康、佳能和ASML的高端工件台均为自主研发。

　　 需要注意的是，尼康、佳能和ASML合计占据全球超过90%的光刻机份额，华卓精科基本上没有任何机会向这三家企业销售工件台。三家公司也都一致地认为，工件台属于核心技术，不对外销售，因此才使得华卓精科成为了上海微电子工件台的唯一供应商。

　　 总之摆在华卓精科面前的难题依然很严峻， 首先是客户单一化，成为了企业营收最大的难题；其次上海微电子主要生产SSX600和SSX500 两个系列的光刻机，只能满足90nm工艺需求， 对于日渐提升的半导体产业而言，意义还是很有限的。

　　 所以中国自主光刻机能否实现更进一步的突破，还得看后面上海微电子能够做得怎么样。 据悉，上海微电子的28nm光刻机即将于2021年交付，其中华卓精科的工件台起到了非常重要的作用。 真心希望如外界所言，国产光刻机能够在2021年迎来新的突破！

　　上海微电子市值有多少亿

　　市值为1700亿美元。

　　近期，上海微电子装备(集团)股份有限公司（下称“上海微电子装备”）披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机从此前的90nm一举突破到28nm，不仅打开了上海微电子装备的市场空间，也打开了资本市场对于这家公司上市的想象力。

　　拓展资料

　　一. 2009年，公司推出首款光刻机产品

　　1.SSB500/10A，分辨率为2微米。2018年3月，公司的SSA600/20型光刻机验收通过，公司光刻机的分辨率推进到90nm。 显示，公司目前的产品线可分为光刻机、激光与检测和特殊应用三种。 要测算上海微电子装备的估值，先要估算其收入规模。 根据ChipInsights数据，2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台，较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台；半导体封装、面板、LED用光刻机出货约190台。

　　2.从总营收来看，2019年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收954亿元人民币，由于这三家几乎占据了光刻机的绝大多数市场，因此估计目前全球光刻机市场规模在千亿元水平。 按光刻机的应用场景分，IC前道制造用光刻机占九成以上市场，基本由三巨头垄断。按照曝光光源分为i-line、KrF、ArF、ArFi，EUV，技术难度逐步上升，垄断性也逐步加强。

　　3.上海微电子装备尽管已经具备其中ArF、KrF、i-line光源光刻机，但产品出货量还微乎其微。在若干年后，IC前道光刻机有望成为公司的主要收入

　　道琼斯指数35727(0.14%)_

　　上证指数3609.86(0.76%)_

　　创业板指3338.62(1.64%)_

　　恒生指数26132.03(0.02%)_

　　道琼斯指数35727(0.14%)_

　　上证指数3609.86(0.76%)_

　　创业板指3338.62(1.64%)_

　　恒生指数26132.03(0.02%)_

　　 道琼斯指数35727(0.14%)_ 打开 国产光刻机迎来突破，两连板的张江高科究竟受益多少? 关注 据测算，如上海微电子装备成功上市，A轮进入的张江高科可能将获50亿元的收益。

　　二.近期，上海微电子装备(集团)股份有限公司（下称“上海微电子装备”）披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。国产光刻机从此前的90nm一举突破到28nm，不仅打开了上海微电子装备的市场空间，也打开了资本市场对于这家公司上市的想象力。

　　1.一石激起千层浪。受此消息影响，6月5日相关概念股张江高科（600895.SH）、上海电气（601727.SH）在此消息刺激下双双涨停。张江高科在6月8日再次涨停。 上海电气和张江高科涨停是有什么依据？国产光刻机浪潮会有多大？ 要理解这两个问题，就先要解决以下两个问题：上海微电子装备的规模及其上市后的市值多少，以及上海微电子装备能为相关概念股贡献多少利润。 上海微电子装备上市后估值几何？ 此次光刻机国产化的主角上海微电子装备成立于2002年，相比尼康、ASML等前辈，属于光刻机里的“后浪”。 2009年，公司推出首款光刻机产品SSB500/10A，分辨率为2微米。2018年3月，公司的SSA600/20型光刻机验收通过，公司光刻机的分辨率推进到90nm。

　　显示，公司目前的产品线可分为光刻机、激光与检测和特殊应用三种。 要测算上海微电子装备的估值，先要估算其收入规模。 根据ChipInsights数据，2019年全球半导体、面板、LED用光刻机出货约550台，较2018年减少50台。其中半导体前道制造用光刻机出货约360台；半导体封装、面板、LED用光刻机出货约190台。

　　2.从总营收来看，2019年ASML、Nikon、Canon三巨头光刻机总营收954亿元人民币，由于这三家几乎占据了光刻机的绝大多数市场，因此估计目前全球光刻机市场规模在千亿元水平。 按光刻机的应用场景分，IC前道制造用光刻机占九成以上市场，基本由三巨头垄断。按照曝光光源分为i-line、KrF、ArF、ArFi，EUV，技术难度逐步上升，垄断性也逐步加强。

　　3.上海微电子装备尽管已经具备其中ArF、KrF、i-line光源光刻机，但产品出货量还微乎其微。在若干年后，IC前道光刻机有望成为公司的主要收入

　　上海微电子装备目前并未披露其营收情况，但我们可以根据其出货情况和其他公司类比推测。 Veeco公司的光刻机产品结构和上海微电子装备比较类似，都以先进封装和LED光刻机为主。2019年Veeco公司光刻机的营收约为3亿元人民币，预估销售台数在20台以内，据此推算该公司光刻机单价在1500万元~2000万元。

　　4.假设上海微电子装备产品单价和Veeco接近，结合上海微电子装备50+台的出货量推算，其2019年光刻机营收大概率在7.5亿元到11亿元，加上激光检测和特殊应用两个产品线的营收，公司整体营收规模可能在10到15亿元。 参考A股半导体设备公司的估值水平，静态市销率在8.9倍到66倍，其中科创板公司的市销率显著高于其他主板上市的公司。

　　上海微电子的90纳米光刻机已经通过了验收，现在在哪个公司有实际应用？

　　芯片禁令的实施，让台积电无法代工麒麟芯片，导致华为手机不能正常发布。因此，让更多的人了解到芯片的重要性，也明白了光刻机在芯片制造中的不可或缺。这也让荷兰ASML变得更加知名，销售额不断攀升，营收利润实现了大幅上涨。相比之下，国内光刻机制造商上海微电子就显得没那么风光。不过，这也很不简单，也正是因为有上海微电子，我国才成为全球有能力生产光刻机的三个国家之一。

　　近年来，台积电就一直在研发和布局先进封装。之前提到的华为研发的芯片叠加技术，要实现就需要用到这个先进封装光刻机。那么，上海微电子的光刻机在全球到底处于什么水平？关于光刻机，主要分为前道光刻机和后道光刻机。上边提到的中国首台先进封装光刻机，就属于后道光刻机。前道光刻机是芯片制造过程中使用，就是把高纯硅做成的一大片圆形的芯片圆上通过光刻机刻出一个一个的芯片，而后道光刻机就是把芯片用陶瓷或者树脂等封装起来。在前道光刻机上，上海微电子能够量产90nm光刻机，正在攻坚28nm光刻机。

　　28nm光刻机也就是现在需求最大的DUV光刻机，中芯国际如今正大举扩产28nm及以上芯片产能，目前需要从ASML购买，如果国产能够交付，那将是重大的突破。因此，在前道光刻机上，我们差距还很大，更别说还有更先进的EUV光刻机了。不过，在后道光刻机上，上海微电子实力可不弱，在国内市场占到了80%左右的份额，在全球市场也占到40%份额。去年，富士康就一下采购了46台国产封装光刻机。

　　富士康采购的也是比较先进的封装光刻机，因为它要用于芯片圆级封测厂。连富士康都选择了国产光刻机，可见上海微电子在封装光刻机方面，已经彻底站稳了市场。

　　这对于继续突破前道芯片制造用的光刻机有很大好处，一方面，有了资金，就能形成良性循环，可以继续研发。另一方面，可以积攒经验，这是继续前进的重要保障。

　　因此，即使上海微电子这次突破是先进封装光刻机，其意义也是十分的重大。

　　当然，我们还必须要突破前道光刻机，尤其是EUV光刻机。可喜的是，我们早就在布局，并且不只是上海微电子在努力，其它相关企业也在积极研发光刻机相关技术。

　　像北京科益虹源研发光源系统、北京国望光学研发物镜系统，国科精密研发曝光光学系统、华卓精科研发双工作台、启尔机电研发浸没系统等，将促进国产光刻机突破。

　　还有中科院、清华大学、长春光机所等还在研发EUV等技术，不断取得了突破。

　　因此，之前十分狂傲的ASML如今态度也开始变了。之前曾说道即使给我们图纸也做不出光刻机，前段时间ASML总裁却表示，不是绝对不可能，大陆会尝试做出。

　　并且对于美方限制其向大陆出售EUV光刻机很不满，甚至公开警告道，限制出货只会促进大陆光刻机技术发展，可能不出5年时间，他们将会彻底失去大陆的市场。

　　现在看来，ASML总裁说得没错，我们在努力，国产光刻机也一定会实现突破。

　　对于大陆这个全球最大的市场，ASML可不想错过，因为才会和中芯国际续签DUV光刻机协议，还不断降价销售，想要抢占大陆市场，打压我们国产光刻机的发展。

　　对此，我们必须重视，如今上海微电子在先进封装光刻机上又实现突破，说明我们在前进。只有坚定不移地实现国产光刻机，才能够彻底解决芯片“卡脖子”问题！